中晶片技術將落後西方15年？ASML：美禁售EUV曝光機

荷蘭半導體微影設備大廠艾司摩爾（ASML）執行長富凱（Christophe Fouquet）日前表示，由於美國對陸禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，導致中國無法獲得尖端曝光機，與英特爾、台積電和三星等行業巨頭相比，中國晶片技術將落後西方10年或15年。

荷蘭「新鹿特丹報」（NRC）報導，富凱指出，禁令確實會產生影響，畢竟ASML是一家私營企業。他指出，不僅是美國，每個人都低估了經營一家成功的晶片工廠所需的條件，「你需要的不僅是錢，而且你必須投資於研究，不斷學習和嘗試，這需要數年時間。」

這是自2024年4月富凱擔任ASML執行長以來，首次談及中國與海外半導體產業的差距。先前富凱還表示，世界需要中國生產的「傳統晶片」，將填補歐洲的供需缺口，尤其中國廠商不可能造出先進曝光系統。

今年10月16日，ASML發布2024財年第三季度財報顯示，銷售額為75億歐元，高於預期目標，這主要得益於DUV曝光系統銷售和裝機售後服務的增加，該季度毛利率為50.8%，低於上一季度，淨利潤21億歐元。其中，中國仍然是ASML的最大市場，占今年第三季度銷售額的47%，達27.9億歐元。

ASML預計，半導體市場的復甦進程比先前的預期緩慢，2024年第4季ASML的銷售額將達88億到92億歐元之間，毛利率介於49%到50%，其中包括經客戶驗收後首次確認收入的兩台高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）曝光機。因此2024年全年，ASML的銷售額為280億歐元左右。

預計到2025年，ASML總淨銷售額將增長到300億到350億歐元之間（先前指引為300到400億歐元），毛利率介於51%到53%之間，遠低於先前公司預測值。

富凱表示， ASML擁有令人難以置信的市場地位，但也為此付出了代價：關注和外部壓力。這一點將繼續存在，中國、美國以及每個政府都將ASML視為拼圖中的關鍵部分。

富凱強調，「如果剩下幾個大公司，對創新來說會更好。我毫不懷疑三星將會復甦。競爭對手也希望看到英特爾再次表現出色。但如果犯的錯誤太多，就很難聯繫起來。英特爾的復甦對美國具有重要的戰略意義。這是他們能夠繼續自己製造先進晶片的唯一途徑。」

ASML在全球晶片供應鏈中佔據重要地位，世界上幾乎90%的晶片，都是由ASML曝光系統生產。在半導體製造行業，深紫外（DUV）曝光機，可以用於製造7奈米及以上製程的晶片，涵蓋了大部分數位晶片和幾乎所有的類比晶片。

隨著先進製程向5奈米及以下進化，EUV成為未來曝光技術和先進製程的核心，主要用於7奈米及以下先進晶片製造工藝，荷蘭ASML是唯一的供應商。自1988年交付首台步進式（stepper）曝光機以來，今年是ASML深耕中國市場的第36年。

2024年1月2日，ASML發布聲明稱，荷蘭政府部分撤銷先前頒發的NXT:2050i和NXT:2100i曝光機在2023年發貨的出口許可證，這將對ASML在中國的個別客戶產生影響。