路透:ASML證實再多一款曝光機不能出口中國

中央社台北26日電

荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)首次證實,美國去年10月祭出的規定,直接限制該公司對中國出口規格較低的NXT:1970i深紫外光曝光機,而這產品不在荷蘭要求獲得出口許可的範圍內。

環球網24日報導,荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)執行長達森(Roger Dassen)當地時間24日發布2023年第四季及全年財報,指荷蘭及美國最新頒布的出口管制法規已經生效,預期今年艾司摩爾不會獲得向中國運送NXT:2000i及以上的浸潤式深紫外光曝光機(DUV)的出口許可。

達森又指,個別中國先進晶片製造晶圓廠將無法獲得發運NXT:1970i及NXT:1980i浸潤式深紫外光曝光機的許可證。

路透25日報導,這是艾司摩爾首次公開證實,美國的規定直接限制該公司對中國出口規格較低的NXT:1970i曝光機,而這產品並不在荷蘭要求獲得出口許可的範圍內。

報導引述達森表示,仍然預期中國對較舊規格曝光機的需求將保持「非常非常穩定」。

報導引述艾司摩爾執行長韋尼克(Peter Wennink)表示,中國會持續對較舊規格的半導體設備有需求,因為中國很多日常設備,及大型太陽能及電動車產業,也需要較舊規格的晶片,「他們完任依賴進口」。

自從美國限制對中國半導體產品及設備出口,艾司摩爾從2019年起已限制向中國出售最先進的極紫外光曝光機(EUV)。

據中國媒體財新報導,NXT:1970i首次出貨的時間是2013年,是2016年首次出貨的NXT:1980i的上一代產品。NXT:1970i不能出口到中國,意味著部分中國晶圓廠只能從艾司摩爾購得2013年首次出貨的NXT:1965Ci曝光機,落後目前最先進的NXT:2100i五代。

艾司摩爾(ASML)上季訂單大增,是晶片業復甦的好消息。 (路透)

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