信越化學56年來首在日本蓋新廠 生產光阻劑等半導體材料

日經亞洲報導，全球最大PVC（聚氯乙烯）與矽晶圓供應商信越化學（Shin-Etsu）將在日本蓋新廠，是該公司56年來首度在國內設立新工廠，此時正值日本政府大力推動強化本國的半導體供應鏈。

信越化學的新廠將在2026年完工，將生產光阻劑與其他用於半導體曝光製程的材料。

日經亞洲報導，信越計劃在群馬縣南部城市伊勢崎占地約15萬平方公尺的土地投資約830億日圓（5.47億美元）。該公司上次在日本國內設廠是在1970年，生產氯乙烯等材料。

信越控制全球約20%的光阻劑市場，據信掌握先進產品市場的至少40%。目前信越在台灣和日本新潟縣生產光阻劑材料，分別在2021年和2022年擴增產能。

新的群馬廠將做為信越半導體材料的策略中心，包括對南韓、美國等地的出口。該公司計劃最終在當地進行研發工作。

同時間，競爭同業三井化學的山口縣工廠正在擴廠，該廠生產光罩護膜，是用於保護光罩在進行曝光期間免受灰塵汙染和損傷的一層薄膜。隨著半導體微影設備龍頭荷商艾司摩爾（ASML）計劃推出更多先進的微影設備系統，三井化學目標提供更堅固、更透明的奈米碳管薄膜。三井化學將投資50億至90億日圓，目標2025年或2026年開始量產。

日本為了強化半導體供應鏈，同時重視提高國內的晶片生產材料供應。Fujifilm公司已在日本境內生產用於拋光晶圓的化學機械拋光（CMP）漿料，大陽日酸公司計劃2026年在日本開始生產氖氣，這是用於半導體製程中的一種氣體。

日本一直維持在半導體材料領域的領先優勢，多年來掌握的技術知識無法被輕易規格化或複製。根據英國研究業者Omdia的資料，在六大半導體生產材料中，日本業者掌握約50%的市占，高於台灣的17%與南韓的13%。