任正非：中國科技業須警惕表面繁榮 未來5年生死窗口期

中國國家主席習近平日前召開民企座談會，網傳華六位企業家會上發言摘要；其中華為技術首席執行官任正非表示，儘管中國在智能駕駛、半導體等領域取得顯著進展，但仍須警惕「表面的繁榮掩蓋內功不足」，他也強調，未來五年是中國科技產業的生死窗口期。

媒體觀察指出，會議首個發言的是華為董事長任正非，而刊發的照片也是習與任正非的握手照；據了解，年屆80的任正非近年甚少在公開會議亮相，他創辦的電訊科技巨頭華為有濃厚中國軍方和國安背景，也被美國及西方多國封殺，女兒孟晚舟2018年底更被美國指控欺詐，遭軟禁加拿大兩年多。

不過對於近期中國在創科各領域的突破，任正非仍保持警惕。他在座談會上指出中國智駕、半導體等領域雖取得突破具備全球競爭力，但要警惕「表面的繁榮掩蓋內功不足」，呼籲企業加強核心技術研發與全球化布局。

任正非指出，未來五年是中國科技產業的生死窗口期，民營企業必須成為全球技術規則的制定者。

他透露，透露華為「備胎計畫2.0」，聯合國內2000家企業重構半導體、工業軟件等關鍵領域生態，目標2028年實現全產業鏈自主化率超70%。

任正非還提出「黑土地理論」：華為不再追求全球化，而要打造「黑土地」模式，在任何國家投資，必須帶動當地就業、技術升級，用利益共同體抵禦政治風險。