美國管控晶片 ASML：只會逼中國廠商造出更先進曝光機

荷蘭晶片製造設備大廠艾司摩爾（ASML）CEO富凱（Christophe Fouquet）公開表示，美國嚴厲的晶片管控規定，只會逼迫中國廠商造出更先進曝光機。

快科技報導，富凱指出，多年來，公司都不用擔心設備的去向會受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話題之一。

過去一段時間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。去年，荷蘭政府宣布新的半導體設備出口管制措施，主要針對先進製程的晶片製造技術，艾司摩爾首當其衝。

根據艾司摩爾今年1月1日發布的聲明，荷蘭政府撤銷的是2023年頒發的NXT:2050i和NXT:2100i曝光系統的出口許可證，「此禁令將影響少數在華客戶」。

為進一步遏制中國的科技發展，美國日前還要求荷蘭政府對中國境內部分艾司摩爾設備的維修服務增加限制。

中國已連續三個季度成為艾司摩爾最大市場，今年第1季，對華出口占到艾司摩爾系統銷售額的49%。

艾司摩爾十分擔憂對華出口進一步受限。富凱甚至表示，限制措施會讓中國更有動力開發自己的高端技術（曝光機），「施加的限制越多，就越會促使對方自力更生。」

華爾街見聞報導，這一點已在去年表現出來，當時華為發布了新款智慧型手機Mate 60 Pro，使用了先進的中國國產晶片，而美國限制措施要阻止中國製造的就是這種晶片。

儘管美國商務部長雷蒙多（Gina Raimondo）在4月稱華為的晶片比美國落後好幾年，但Mate 60 Pro的推出，還是讓美國官員對美國出口管制措施的有效性憂心忡忡。

如果不使用艾司摩爾的高階設備，的確也有可能製造出像華為所用的這種先進晶片，但華為的工藝成本較高，而且難以大規模生產。

富凱面臨的另一個挑戰，是如何維持艾司摩爾在晶片生產設備領域的主導地位。

巴克萊銀行（Barclays）分析師Simon Coles說：「艾司摩爾擁有全球最先進的晶片生產工具，但人們會問，『下一個最先進的設備是什麼？』」

艾司摩爾的最新設備名為高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備；數值孔徑是一個用來衡量聚光能力的指標。英特爾（Intel）最先入手了一台；這種新設備花費3.81億美元左右。

該公司已表示，下一次技術飛躍可能是一種可以在晶片上打印更小特徵的機器，該公司稱之為超級數值孔徑（Hyper NA）。富凱說，客戶在未來幾年不會需要這種帶有未來主義色彩的設備。

在那之前，艾司摩爾料將受益於市場對較小、性能較強晶片日益成長的需求，以及美國和歐洲旨在大力促進晶片製造的支出。