台積電傳出今年底會收到艾司摩爾(ASML)的高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影設備。(路透) 艾司摩爾(ASML)最先進晶片製造設備的首批機件傳年底就會運抵台積電。英特爾幾個月前已先收到這台高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影設備。 日媒引述消息人士報導,台積電將把High NA EUV安裝在新竹總部附近的研發中心,因為進行大量生產前,該設備尚需進行大量的研究和工程準備。這是全球最昂貴的晶片製造設備,每台要價約3.5億美元,相當於三架F-35戰機的價格。 台積電可能在推出埃米級A10製程後才考慮使用該設備進行商業生產,可能是2030年後。 台積電 晶片 上一則 Intel基辛格:台積電是很棒的公司 既是客戶也是競爭者 下一則 美股選後不妙?花旗舉4理由:史坦普500年底漲勢可期
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