突破美封鎖？上海微電子傳成功自製28奈米光刻機

美國政府重點打擊中國半導體產業，中國光刻設備製造商上海微電子裝備（SMEE）此前被列入制裁，被限制獲取美國技術。不過，有媒體報導，上海微電子似突破限制，已成功研製出28奈米（納米）光刻機。

新加坡聯合早報報導，統籌上海張江科學城開發建設的張江集團19日在集團微信公眾號「你好張江」發文稱，「作為國內唯一一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子已成功研製出28nm光刻機。」

據報導，「鈦媒體」形容，張江集團公布的這一消息，標誌著中國最新28奈米前道光刻機研發進展首次被官方披露。

報導指出，張江集團是一家統籌承擔張江科學城開發建設、專案引進等重要功能的國有獨資公司，隸屬於上海市浦東新區政府監管單位。「天眼查」資訊顯示，張江集團是上海微電子的第四大股東。消息傳出後，張江集團股價飆升了8%。

不過，張江集團之後對文章進行了修改，目前的文章中拿掉了關於28奈米的表述，改為「作為國內唯一一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子致力研製先進的光刻機。」

上海微電子（SMEE）成立於2002年，是由中國多家產業集團和投資公司共同投資組建的高科技股份有限公司。公司主要致力於半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務。在美國去年加大力度遏制中國晶片產業發展的背景下，美國商務部將上海微電子列入黑名單。

另據彭博報導，雖然28奈米晶片於2011年首次問世，但上海微電子的最新成果意味著中國可能已將與該領域領先者的差距縮小了幾年。此前，中國自己的光刻技術落後荷蘭公司約20年。儘管現在的光刻技術更加成熟，28奈米晶片對於智能手機和電動汽車等眾多產品仍然至關重要。

據香港商報網，上海微電子主要生產四種系列光刻機：用於IC（集成電路）前道製造的SSX600系列光刻機；IC後道先進封裝的SSB500系列光刻機；LED、MEMS、功率器件製造的SSB300系列光刻機；TFT曝光的SSB200系列光刻機。