華裔時尚攝影師辛博輝 作品在紐約視覺藝術學院展出

紐約視覺藝術學院即日起至27日將在曼哈頓舉辦展覽「Bold Outlines」，免費展出往屆畢業生的優秀作品，其中華裔時尚攝影師辛博輝(Agen Xin)是十多名被選入的藝術家之一；他指出，自己的「面具」藝術項目中Noble Faced系列裡，共三幅最具代表性的作品被選入其中，感到很興奮也覺得是一種認可，激勵自己繼續創作，給大眾帶來更好的作品。

辛博輝解釋，「面具」的主要創作理念是以時尚面具為核心元素，與不同的社會歷史背景相結合，通過獨特的造型，探索神秘感、身分認同和自我意識等概念；創作過程中不乏對18、19世紀時尚潮流的思考，他想要展現出束縛與奢華之間的碰撞，體現那年代的服飾不僅追求過度的塑形，還將束腰、胸衣等不舒適的服飾視為潮流，令人思考其華麗外表下蘊藏的隱喻。

他表示，個人也很喜歡「面具」中Noble Faced系列的部分，當得知其中的三幅作品入選展覽時很興奮，「每次看到觀眾在我的作品前駐足停留，我都感受到這對我是一種認可，同時也激勵我繼續創作，帶給大眾更好的作品。」

辛博輝分享道，成為時尚攝影師是一個巧合，也像是某種注定，他自中學起便對時尚和潮流感興趣，特別深受街頭文化的影響，成長過程中對創造性事物的熱愛與喜歡拍照的愛好交織在一起，為後來成為時尚攝影師奠定了基礎；而在成為攝影師前，他也從事許多與時尚相關的工作，在中國時曾是球鞋潮流的買手，也與朋友創立過球鞋品牌，後來涉足攝影後喜歡上這個表達創造力的方式，「我享受拍攝從構思到成像的過程，成品受到他人欣賞的成就感，是我選擇成為時尚攝影師的重要原因。」

展望未來，辛博輝希望能通過自身的努力成為一名一線攝影師，他指出，儘管中國的時尚攝影與歐美相比發展得較晚，但他依然會發揮最大的努力，致力於在國際舞台上展現出華人攝影師的視覺審美和實力。

該攝影展將從即日起至27日(周三)在紐約視覺藝術學院的Flatiron畫廊免費展出，地址是紐約西21街133號，開放時間是周一至周六的早上10時至傍晚6時。