中國國產光刻機工廠傳落地河北雄安

中國國產光刻機工廠傳出落腳河北雄安新區，近期，一則消息在各大視頻平台廣為傳播，稱北京清華大學EUV項目把艾司摩爾（ASML）的光刻機巨大化，要實現光刻機國產化，並透露這個項目已經在雄安新區落地。

EUV最難的部份在於光源，中國業界傳出有意將光刻機巨大化，用一台周長100~150米的環形加速器作為「光源」，然後帶動數台甚至數十台光刻機進行工作，換句話說，這不是單一台光刻機，這是光刻機工廠、晶片加工流水線的概念，上面有很多EUV光源束線，同時讓好幾個光刻機開工，整個光刻工廠中，一切設備都圍繞這個光源來設計。

業界人士指出，艾司摩爾造出的光刻機主要是為了出售給全世界，在運送機器的考量下就必須考慮小型化，光刻機的光源也必須小型化，如果中國自己造超大型光刻機，甚至真的造出能夠滿足各種製程的光刻機工廠，成本不但不會變高，反而會降低，因為使用量大就能降低成本。

巧合的是，在北京懷柔雁棲湖畔就用國家的資金，打造一個巨大的光源研發建築物，巨大的環型建築物造型，就被中國網友懷疑可能做為光刻機工廠，並將於2025年啟用。

澎湃新聞報導，中國電子工程設計院有限公司（下稱中國電子院）18日表示，該專案並非網傳的國產光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源專案（HEPS）。

北京高能同步輻射光源項目坐落於北京懷柔雁棲湖畔，是國家「十三五」（2016-2020年）重大科技基礎設施，它是中國第一台高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設、將於2025年底投入使用。

HEPS是幹嘛用的呢？它的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV，然後注入周長1360米的儲存環，用接近光速的速度保持運轉。電子束在儲存環的不同位置通過彎轉磁鐵或者各種插入件時就會沿著偏轉軌道切線的方向，釋放出穩定、高能量、高亮度的光，也就是同步輻射光。

中國電子院解釋稱，HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機，它產生的小光束可以穿透物質、深入內部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS是進行科學實驗的大科學裝置，並不是網傳的光刻機工廠。

中國電子院稱，該專案由全國勘察設計大師、國投集團首席科學家婁宇帶隊，中國電子院多個技術科研和設計團隊協同合作，從項目可研立項到項目落地攻克了多項技術和工藝難關。目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工。